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随着芯片逐渐成为各国综合国力的重要指标，华为中芯国际等中企被美国重压制裁，作为“芯片之母”的EUV光刻机更是受到了极大的关注，然而很少人知道，EUV光刻胶也同样重要，毫不夸张地说，没有EUV光刻胶，EUV光刻机就无法生产芯片。近日，三星电子
为抑制中国本土半导体厂商发展，美国做出了相当多的措施，其中之一是劝说荷兰加大中国禁令强度，因为荷兰坐拥全球唯一一个EUV光刻机设备生产商ASML。据路透社报道，近日荷兰首相马克·吕特（Mark Rutte）表示：荷兰已与美国在对中国芯片出口
在半导体制造设备中，光刻机毫无疑问是最重要的核心设备，直接决定着芯片工艺的先进程度，目前最先进的光刻机是荷兰光刻机制造厂商ASML研发的EUV光刻机，可制造7nm以下的工艺，售价约10亿元左右。美国打压中国所采取的措施之一就是强制ASML向
在半导体制程技术进入5nm先进工艺后，EUV光刻机已成为不可或缺的关键设备，但由于能制作的EUV光刻机厂商仅有ASML，而且产能有限、造价高昂，每台售卖超1亿美元，相当高的条件，决定了现在的芯片成本越来越贵。然而，日本佳能（Canon）号称
众所周知，为打压中国半导体行业发展，美国的制裁可谓是无所不及，短短四年内，从EUV光刻机到高性能计算芯片等，列出了多项严格的限制。如今这些制裁范围又要升级！近日，美国拜登政府宣布将计划正式出台一系列新的限制措施，包括限制向中国出口更先进的人
在EUV光刻机被断供前，中国厂商就已经疯狂抢购ASML光刻机，并且达到了一个可观的数量，那么你知道，目前中国有多少个光刻机？ASML刚好给出了答案。近日，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波字第六届中国国际进口博览会上接受媒体采访时透露过：到
晶体管的尺寸不断减小主要得益于以下几个关键技术和方法：1. 光刻技术光刻技术是芯片制造中最重要的步骤之一。它利用光将电路图案转印到硅片上。随着技术的进步，使用更短波长的光（如极紫外光，EUV）可以实现更高的分辨率，允许制造更小的结构。2.
芯片制造业中最关键的技术包括以下几个方面：光刻技术：光刻是芯片制造的核心工艺之一，通过将电路设计图案转移到硅晶片上，形成微小的电路结构。随着技术的发展，极紫外光（EUV）光刻技术的引入使得更小的特征尺寸得以实现，推动了芯片的微型化和性能提升
EUV技术前景光明
（本文编译自Semiconductor Engineering）支撑人工智能革命的先进制程芯片需求呈现爆发式增长，正持续考验全球半导体产业的供给能力。从支撑大语言模型的超大规模数据中心，到智能手机、物联网设备和自动驾驶系统的边缘AI，各领域对尖端半导体的渴求已形成叠加效应。然而，这类芯片的制造高度依
