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光刻机是半导体产品制作中的核心设备之一，EUV光刻机更是芯片制作的核心设备，全球中只有阿斯麦尔（ASML）公司能研发、生产、出口，制作EUV光刻机难度非常大，需要集齐多国零件和多种工艺技术，中国美国欧洲等多个国家投入资金研发EUV工控机都是
根据Intel的芯片工艺路线图，到2025年之前他们要在短短4年内掌握5代CPU工艺，其中有2代还是首次进入埃米级工艺，今年下半年将要量产Intel 4工艺，也就是对标友商的”4nm“工艺，也是Intel首款使用EUV光刻机的工艺。目前台积
近日，美国成功制造出0.7nm芯片的消息正在席卷科技界，引发业界热议，连世界最先进的芯片代工厂商台积电和三星至今仍未突破2nm以下的技术限制，美国是怎么实现0.7nm芯片？据了解，该消息来自美国Zyvex Labs，9月21日，Zyvex
随着微电子高速发展，我国虽然在半导体芯片领域上起步较晚，甚至部分核心技术仍被海外垄断，但在政府扶持及企业重视，我国在硅基芯片上取得初步效果，但我们也不能忽视光子芯片。和常见的硅基芯片不同，光子芯片的工作原理跟硅基芯片不同，运算速度可提升10
之前，随着中美贸易战愈发激烈，作为全球知名的，唯一一个能够制造EUV光刻机等先进芯片制造设备的半导体厂商，ASML开始走入国人的眼里，那么很多人就好奇了，难道ASML就靠光刻机一家独大吗？诚然，在媒体和博主的科普下，大家对ASML的了解是它
全球唯有台积电和三星能够制作5nm以下工艺的晶圆代工，然而随着芯片工艺制程的提升，研发难度越来越高，发布时间也越来越少，这也造成很多人说摩尔定律将死。纵观台积电的路线发展图，台积电将在2022年年底量产3nm工艺，2025年量产2nm，在此
众所周知，若是要制作先进芯片，离不开EUV（极紫外）光刻机，不管是世界一流的芯片代工厂商台积电、三星、Intel等，都需要和EUV光刻机厂商ASML打好关系，然而有个厂商却宣布成功绕过EUV光刻机打造出先进芯片？近日，美国内存芯片龙头企业美
自从中美贸易战的战火涉及华为、中芯国际等企业，美国以断供芯片和EUV光刻机手段重压制裁，人们开始第一次意识到作为“芯片之母”的EUV光刻机的重要性。若是中国想在半导体领域上有所成就，不受限他国，EUV光刻机的研发是不可或缺的。近日，华为近日
随着芯片逐渐成为各国综合国力的重要指标，华为中芯国际等中企被美国重压制裁，作为“芯片之母”的EUV光刻机更是受到了极大的关注，然而很少人知道，EUV光刻胶也同样重要，毫不夸张地说，没有EUV光刻胶，EUV光刻机就无法生产芯片。近日，三星电子
为抑制中国本土半导体厂商发展，美国做出了相当多的措施，其中之一是劝说荷兰加大中国禁令强度，因为荷兰坐拥全球唯一一个EUV光刻机设备生产商ASML。据路透社报道，近日荷兰首相马克·吕特（Mark Rutte）表示：荷兰已与美国在对中国芯片出口
