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基础教程|硅基光电子技术制造的不均匀性及其对性能的负面影响分析

简介本教程讨论硅基光电子电路 (PIC) 制造变化的影响。这些变化，尤其是硅厚度和特征尺寸的变化，会严重影响器件性能。了解这些变化对于设计稳健的 PIC 和制定减轻其影响的策略很重要。制造的不均匀性PIC 通常需要精确匹配组件（如环形调制器、光滤波器）之间的中心波长和波导传播常数，以实现波分复用等功

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硅基光电子电路电子制造技术

基础教程|硅基光电子技术制造的不均匀性及其对性能的负面影响分析