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mSAP设备排产至2027年,PCB工艺逼近半导体级导语

2026-05-29 15:42
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mSAP设备排产至2027年,PCB工艺逼近半导体级导语

1.6T光模块PCB线宽线距仅20微米,传统HDI工艺彻底失效,mSAP(改良型半加成法)成为唯一可行制程。然而,镭射钻孔机、LDI曝光机、脉冲电镀镍设备等核心瓶颈设备采购周期全部排至2027年,2026年mSAP高端PCB产能缺口超30%。当PCB工艺精度逼近半导体级,"设备锁定产能"正成为决定企业能否吃到AI红利的关键胜负手。

新闻详情

据《东方财富网》(https://caifuhao.eastmoney.com/news/20260527192904598075160)报道,2026年AI算力主板与高速PCB的涨价已从"传闻叙事"变为实打实的账面行情。1.6T光模块PCB(mSAP工艺)单价从2025年的约208元/片飙升至2026年5月的420元/片,涨幅达102%,一年翻倍。800G光模块PCB从76-80元/片涨至140元/片,涨幅75%-84%。

mSAP工艺

据《雪球》mSAP专家交流纪要,当前mSAP核心设备供给极度紧张:曝光机以日本OATX、奥宝为主,国产仅芯碁微装具备少量供应能力;水平闪镀线、蚀刻线主要供应商为德国Schmid、美国MKS,单条线价格约8000万元,常规排队交期超1年,加急采购也需7-8个月。可剥离铜箔被日本三井垄断,国内厂商尚处研发小批量阶段。从扩产周期看,从土建、设备安装、客户认证到产能爬坡稳定产出,至少需要2年以上。

据新浪财经A股研报,光模块mSAP工艺产能的需求从2026到2027年将增加约3倍,而mSAP产能的扩张周期预计在15-18个月,需求的爆发将持续加剧供给缺口。

行业分析

mSAP之所以成为AI PCB产业链最硬核的瓶颈,本质在于其"半导体制程"属性。7阶HDI要求"7次压合、7次蚀刻、7次镀铜",单次良率若为98%,7次循环后综合良率将断崖式下降,过程管控难度极高。激光孔孔径仅50-60微米,为传统工艺的一半。这意味着mSAP不再是传统PCB制造,而是精密半导体制程的延伸。

从产能格局看,国内具备mSAP量产能力的头部企业产能已被高度锁定:胜宏科技现有mSAP月产能约4.5万㎡,鹏鼎控股约3-5万㎡,深南电路约4.8万㎡,东山精密约2.5万㎡。二线厂商如方正科技、景旺电子的新产能仍处厂房封顶阶段,良率爬坡需要1-1.5年。行业共识是:2027年前mSAP产能紧缺难以缓解,"产能为王"是当下最重要的时代特征。

更值得关注的是,mSAP的应用边界正在快速拓展——从光模块延伸至NVIDIA/Google新型服务器垂直供电电源板、LPO/NPO技术、以及CoWoS先进封装信号层。这意味着mSAP需求不是单点爆发,而是多场景共振,供需缺口将持续扩大。

延伸展望

展望2027年,1.6T光模块需求将从2026年的2500万只进一步放量,叠加英伟达CoWoP封装对更大尺寸SLP产品的需求,mSAP产能将成为类似2024年CoWoS产能般的战略稀缺资源。具备mSAP产能的头部PCB厂商毛利率有望从当前60%进一步走高。设备国产化是中长期破局关键——芯碁微装的LDI曝光机、东威科技的水平闪镀线已开始布局,但真正形成规模替代仍需时间。对硬件供应链而言,mSAP工艺升级意味着电源模块和核心元器件的PCB载板成本将持续上行,下游整机厂商需提前锁定产能。

关键词:mSAP工艺、1.6T光模块、产能缺口、半导体级PCB、设备国产化、硬件、电源、元器件


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