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很少人知道，除了光刻机之外，半导体芯片先进制程的最大关键还有光刻胶，而全球光刻胶市场基本上是以美日公司为垄断，我国很少在光刻机和光刻胶领域上占得优势，如今好消息传来，我国国产高端光刻胶已获得重大突破！
近日，国产公司晶瑞电材在互动平台上表示透露：LrF高端光刻胶已经做到部分品种可量产，同时旗下子公司瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司的光刻胶产品分辨率已经做到0.25-0.13um技术要求，也就是250-130nm工艺，并且已经通过部分重要客户的测试。
光刻胶有多重技术类别，但我国地段的中g线/i线光刻胶自给率仅有20%重要，KrF光刻胶自给率不足5%，高端ArF光刻胶完全依赖于进口，是国内半导体的卡脖子技术之一。
据了解，晶瑞电材是国内最早从事光刻胶生产的企业之一，目前已经取得合肥长鑫、士兰微、扬杰科技、福顺微电子、中芯国际等国内企业的供货订单。
子公司瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司凭借强大的研发实力和突出的产品优势，取得了下游客户的认证，开拓并维系了一大批国内外优质客户，构建了优质的业务平台并成功进入优秀客户的供应链。
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