找到 “EUV光刻机” 相关内容 条
  • 全部
  • 默认排序

在半导体制造设备中,光刻机毫无疑问是最重要的核心设备,直接决定着芯片工艺的先进程度,目前最先进的光刻机是荷兰光刻机制造厂商ASML研发的EUV光刻机,可制造7nm以下的工艺,售价约10亿元左右。美国打压中国所采取的措施之一就是强制ASML向

研发EUV光刻机有多难?ASML告诉你

在半导体制程技术进入5nm先进工艺后,EUV光刻机已成为不可或缺的关键设备,但由于能制作的EUV光刻机厂商仅有ASML,而且产能有限、造价高昂,每台售卖超1亿美元,相当高的条件,决定了现在的芯片成本越来越贵。然而,日本佳能(Canon)号称

绕过EUV光刻机,佳能直接销售5nm芯片设备

众所周知,为打压中国半导体行业发展,美国的制裁可谓是无所不及,短短四年内,从EUV光刻机到高性能计算芯片等,列出了多项严格的限制。如今这些制裁范围又要升级!近日,美国拜登政府宣布将计划正式出台一系列新的限制措施,包括限制向中国出口更先进的人

美国对华半导体封锁全面升级,扩大至GPU!

EUV光刻机被断供前,中国厂商就已经疯狂抢购ASML光刻机,并且达到了一个可观的数量,那么你知道,目前中国有多少个光刻机?ASML刚好给出了答案。近日,ASML全球副总裁、中国区总裁沈波字第六届中国国际进口博览会上接受媒体采访时透露过:到

中国已有将近1400台ASML光刻机