自华为、中芯国际等中企被美国拉入黑名单,意味着中美贸易战从政治经济层面提升到科技战,近两三年来,美国一直在对我国芯片产业及相关半导体产业采取打压措施政策,禁止ASML等设备厂商售卖先进工艺设备,禁止谷歌高通等售卖科技服务等。
国产自主芯片产业也因此奋发,提出“国产全面化”口号,在政府公司大力扶持下,取得初步良好效果,然而刚刚迎来一个坏消息,美国再度向荷兰施压,要求芯片光刻机制造商ASML向中国出口光刻机,这次的范围将延伸到上一代采用DUV技术的光刻机(制造能力最高可生产7nm制程的芯片)。
需要注意的是,早在两年前,美国就已经施压ASML,禁止向中国售卖可以制造5nm及以下制程芯片的EUV光刻机。
据彭博社报道,美国近期正在游说荷兰政府,希望能够禁止ASML向中国出口光刻机,涉及的相关技术还是老款DUV光刻机,智能生产7nm以上制程的芯片。
据了解,该项举动早在一个月前已有苗头,美国商务部副部长唐·格雷夫 (Don Graves)访问荷兰时,曾专门拜访了ASML的总部,并和ASML首席执行官彼得·温宁克 (Peter Wennink)进行会面。
与此同时,除了荷兰的ASML,日本也因为尼康具有制造DUV光刻机的能力,也受到了美国政府的压力,禁止向中国出口DUV光刻机。
若消息属实,这意味着美国已开始对中国芯片产业进行采取全面围堵措施,而我国芯片产业将受到一定的致命影响,因为目前我国能够自主制造的芯片制程还停留在28nm,7nm工艺由于设备限制等因素未能大规模推广。
目前,针对上述的问题,美国商务部和荷兰外交部均表示拒绝发表任何评论,同时ASML和尼康公司仍未做出实质性的回应。