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▍ Test Coupon：俗称阻抗条
Test Coupon，是用来以 TDR (Time Domain Reflectometer 时域反射计) 来测量所生产的 PCB 的特性阻抗是否满足设计的要求，一般要控制的阻抗有单端线和差分对两种情况，所以 test coupon 上的走线线宽和线距(有差分对时)要与所要控制的线一样，最重要的是测量时接地点的位置。
为了减少接地引线(ground lead) 的电感值，TDR 探棒(probe)接地的地方通常非常接近量信号的地方(probe tip),所以 test coupon 上量测信号的点跟接地点的距离和方式要符合所用的探棒的规格。
▍ 金手指
这里的金手指当然不是指加藤鹰啦，金手指(Gold Finger,或称Edge Connector)设计的目的,是用来与连接器(Connector)弹片之间的连接进行压迫接触而导电互连.之所以选择金是因为它优越的导电性及抗氧化性.你电脑里头的内存条或者显卡版本那一排金灿灿的东西就是金手指了。
那问题来了，金手指上的金是黄金吗？老wu觉得应该是金的，但不是纯金。为啥？应为纯金的硬度不够，我们看古装剧里，那些为了验证金元宝是不是真金的，都会用大门牙去咬一下看看有没有牙印，老wu不知道这是不是神编剧在鬼扯，但金手指要应付经常性的插拔动作，所以相对于纯金这种“软金”，金手指一般是电镀“硬金”，这里的硬金是电镀合金（也就是Au及其他的金属的合金），所以硬度会比较硬。
▍ 硬金，软金
硬金:Hard Gold;软金 soft Gold
电镀软金是以电镀的方式析出镍金在电路板上,它的厚度控制较具弹性。一般则用于COB(Chip On Board)上面打铝线用，或是手机按键的接触面，而用金手指或其它适配卡、内存所用的电镀金多数为硬金，因为必须耐磨。
想了解硬金及软金的由来，最好先稍微了解一下电镀金的流程。姑且不谈前面的酸洗过程，电镀的目基本上就是要将「金」电镀于电路板的铜皮上，但是「金」与「铜」直接接触的话会有电子迁移扩散的物理反应（电位差的关系），所以必须先电镀一层「镍」当作阻隔层，然后再把金电镀到镍的上面，所以我们一般所谓的电镀金，其实际名称应该叫做「电镀镍金」。
而硬金及软金的区别，则是最后镀上去的这层金的成份，镀金的时候可以选择电镀纯金或是合金，因为纯金的硬度比较软，所以也就称之为「软金」。因为「金」可以和「铝」形成良好的合金，所以COB在打铝线的时候就会特别要求这层纯金的厚度。
另外，如果选择电镀金镍合金或是金钴合金，因为合金会比纯金来得硬，所以也就称之为「硬金」。
▍ 通孔：Plating Through Hole（PTH）
电路板不同层中导电图形之间的铜箔线路就是用这种孔导通或连接起来的，但却不能插装组件引腿或者其他增强材料的镀铜孔。印制电路板(PCB)是由许多的铜箔层堆叠累积形成的。铜箔层彼此之间不能互通是因为每层铜箔之间都铺上了一层绝缘层，所以他们之间需要靠导通孔（via）来进行讯号链接，因此就有了中文导通孔的称号。
通孔也是最简单的一种孔，因为制作的时候只要使用钻头或激光直接把电路板做全钻孔就可以了，费用也就相对较便宜。可是相对的，有些电路层并不需要连接这些通孔，但过孔却是全板贯通，这样就会形成浪费，特别是对于高密度HDI板的设计，电路板寸土寸金。所以通孔虽然便宜，但有时候会多用掉一些PCB的空间。
▍ 盲孔：Blind Via Hole（BVH）
将PCB的最外层电路与邻近内层以电镀孔连接，因为看不到对面，所以称为「盲孔」。为了增加PCB电路层的空间利用，应运而生「盲孔」工艺。
盲孔位于电路板的顶层和底层表面，具有一定的深度，用于表层线路同下面内层线路的连接，孔的深度一般有规定的比率（孔径）。这种制作方式需要特别注意，钻孔深度一定要恰到好处，不注意的话会造成孔内电镀困难。因此也很少有工厂会采用这种制作方式。其实让事先需要连通的电路层在个别电路层的时候先钻好孔，最后再黏合起来也是可以的，但需要较为精密的定位和对位装置。
▍ 埋孔：Buried Via Hole (BVH)
埋孔，就是印制电路板(PCB)内部任意电路层间的连接，但没有与外层导通，即没有延伸到电路板表面的导通孔的意思。
这个制作过程不能通过电路板黏合后再进行钻孔的方式达成，必须要在个别电路层的时候就进行钻孔操作，先局部黏合内层之后进行电镀处理，最后全部黏合。由于操作过程比原来的导通孔和盲孔更费劲，所以价格也是最贵的。这个制作过程通常只用于高密度的电路板，增加其他电路层的空间利用率。
我们在画好PCB后，将其发送给PCB板厂打样或者是批量生产，我们在给板厂下单时，会附上一份PCB加工工艺说明文档，其中有一项就是要注明选用哪种PCB表面处理工艺，而且不同的PCB表面处理工艺，其会对最终的PCB加工报价产生比较大的影响，不同的PCB表面处理工艺会有不同的收费，下边咱们科普一些关于PCB表面处理工艺的术语。
▍ 为什么要对PCB表面进行特殊处理？
因为铜在空气中很容易氧化，铜的氧化层对焊接有很大的影响，很容易形成假焊、虚焊，严重时会造成焊盘与元器件无法焊接，正因如此，PCB在生产制造时，会有一道工序，在焊盘表面涂（镀）覆上一层物质，保护焊盘不被氧化。
目前国内板厂的PCB便面处理工艺有：喷锡（HASL，hot air solder leveling 热风整平）、沉锡、沉银、OSP(防氧化)、化学沉金（ENIG）、电镀金等等，当然，特殊应用场合还会有一些特殊的PCB表面处理工艺。
对比不同的PCB表面处理工艺，他们的成本不同，当然所用的场合也不同，只选对的不选贵的，目前还没有最完美的PCB表面处理工艺能够适合所有应用场景（这里讲的是性价比，即以最低的价格就能满足所有的PCB应用场景），所以才会有这么多的工艺来让我们选择，当然每一种工艺都各有千秋，存在的既是合理的，关键是我们要认识他们用好他们。
下边来对比一下不同的PCB表面处理工艺的优缺点和适用场景。
裸铜板
优点：成本低、表面平整，焊接性良好（在没有被氧化的情況下）。
缺点：容易受到酸及湿度影响，不能久放，拆封后需在2小时内用完，因为铜暴露在空气中容易氧化；无法使用于双面板，因为经过第一次回流焊后第二面就已经氧化了。如果有测试点，必须加印锡膏以防止氧化，否则后续将无法与探针接触良好。
喷锡板（HASL，Hot Air Solder Levelling，热风整平）
优点：价格较低，焊接性能佳。
缺点：不适合用来焊接细间隙的引脚以及过小的元器件，因为喷锡板的表面平整度较差。在PCB加工中容易产生锡珠(solder bead)，对细间隙引脚(fine pitch)元器件较易造成短路。使用于双面SMT工艺时，因为第二面已经过了一次高温回流焊，极容易发生喷锡重新熔融而产生锡珠或类似水珠受重力影响成滴落的球状锡点，造成表面更不平整进而影响焊接问题。
喷锡工艺曾经在PCB表面处理工艺中处于主导地位。二十世纪八十年代，超过四分之三的PCB使用喷锡工艺，但过去十年以来业界一直都在减少喷锡工艺的使用。喷锡工艺制程比较脏、难闻、危险，因而从未是令人喜爱的工艺，但喷锡工艺对于尺寸较大的元件和间距较大的导线而言，却是极好的工艺。在密度较高的PCB中，喷锡工艺的平坦性将影响后续的组装；故HDI板一般不采用喷锡工艺。
随着技术的进步，业界现在已经出现了适于组装间距更小的QFP和BGA的喷锡工艺，但实际应用较少。目前一些工厂采用OSP工艺和浸金工艺来代替喷锡工艺；技术上的发展也使得一些工厂采用沉锡、沉银工艺。加上近年来无铅化的趋势，喷锡工艺使用受到进一步的限制。虽然目前已经出现所谓的无铅喷锡，但这可将涉及到设备的兼容性问题。
OSP（Organic Soldering Preservative，防氧化）
优点：具有裸铜板焊接的所有优点，过期（三个月）的板子也可以重新做表面处理，但通常以一次为限。缺点：容易受到酸及湿度影响。使用于二次回流焊时，需在一定时间内完成，通常第二次回流焊的效果会比较差。存放时间如果超过三个月就必须重新表面处理。打开包装后需在24小时内用完。OSP为绝缘层，所以测试点必须加印锡膏以去除原来的OSP层才能接触针点作电性测试。
OSP工艺可以用在低技术含量的PCB，也可以用在高技术含量的PCB上，如单面电视机用PCB、高密度芯片封装用板。对于BGA方面，OSP应用也较多。PCB如果没有表面连接功能性要求或者储存期的限定，OSP工艺将是最理想的表面处理工艺。但OSP不适合用在少量多样的产品上面，也不适合用在需求预估不准的产品上，如果公司内电路板的库存经常超过六个月，真的不建议使用OSP表面处理的板子。
沉金（ENIG，Electroless Nickel Immersion Gold）
优点：不易氧化，可长时间存放，表面平整，适合用于焊接细间隙引脚以及焊点较小的元器件。有按键PCB板的首选。可以重复多次过回流焊也不太会降低其可焊性。可以用来作为COB(Chip On Board)打线的基材。
缺点：成本较高，焊接强度较差，因为使用无电镀镍制程，容易有黑盘的问题产生。镍层会随着时间氧化，长期的可靠性是个问题。
沉金工艺与OSP工艺不同，它主要用在表面有连接功能性要求和较长的储存期的板子上，如按键触点区、路由器壳体的边缘连接区和芯片处理器弹性连接的电性接触区。由于喷锡工艺的平坦性问题和OSP工艺助焊剂的清除问题，二十世纪九十年代沉金使用很广；后来由于黑盘、脆的镍磷合金的出现，沉金工艺的应用有所减少，不过目前几乎每个高技术的PCB厂都有沉金线。
考虑到除去铜锡金属间化合物时焊点会变脆，相对脆的镍锡金属间化合物处将出现很多的问题。因此，便携式电子产品（如手机）几乎都采用OSP、沉银或沉锡形成的铜锡金属间化合物焊点，而采用沉金形成按键区、接触区和EMI的屏蔽区，即所谓的选择性沉金工艺。
沉银（ENIG，Electroless Nickel Immersion Gold）
沉银比沉金便宜，如果PCB有连接功能性要求和需要降低成本，沉银是一个好的选择；加上沉银良好的平坦度和接触性，那就更应该选择沉银工艺。在通信产品、汽车、电脑外设方面沉银应用得很多，在高速信号设计方面沉银也有所应用。由于沉银具有其它表面处理所无法匹敌的良好电性能，它也可用在高频信号中。EMS推荐使用沉银工艺是因为它易于组装和具有较好的可检查性。但是由于沉银存在诸如失去光泽、焊点空洞等缺陷使得其增长缓慢（但没有下降）。
沉锡（ENIG，Electroless Nickel Immersion Gold）
沉锡被引入表面处理工艺是近十年的事情，该工艺的出现是生产自动化的要求的结果。沉锡在焊接处没有带入任何新元素，特别适用于通信用背板。在板子的储存期之外锡将失去可焊性，因而沉锡需要较好的储存条件。另外沉锡工艺中由于含有致癌物质而被限制使用。
老wu经常发现小伙伴们会对沉金和镀金工艺傻傻搞不清楚，下边来对比下沉金工艺和镀金工艺的区别和适用场景
沉金与镀金形成的晶体结构不一样，沉金板较镀金板更容易焊接，不会造成焊接不良；沉金板只有焊盘上有镍金，趋肤效应中信号的传输是在铜层不会对信号有影响；
沉金较镀金晶体结构更致密，不易氧化；
沉金板只有焊盘上有镍金，不会产生金丝造成微短；
沉金板只有焊盘上有镍金，线路上阻焊与铜层结合更牢固；
沉金显金黄色，较镀金更黄也更好看；
沉金比镀金软，所以在耐磨性上不如镀金，对于金手指板则镀金效果会更好。
附：PCB术语及英文对照
PCB专业英译术语
一、综合词汇
1、印制电路：printed circuit
2、印制线路：printed wiring
3、印制板：printed board
4、印制板电路：printed circuit board (PCB)
5、印制线路板：printed wiring board(PWB)
6、印制组件：printed component
7、印制接点：printed contact
8、印制板装配：printed board assembly
9、板：board
10、单面印制板：single-sided printed board(SSB)
11、双面印制板：double-sided printed board(DSB)
12、多层印制板：mulitlayer printed board(MLB)
13、多层印制电路板：mulitlayer printed circuit board
14、多层印制线路板：mulitlayer prited wiring board
15、刚性印制板：rigid printed board
16、刚性单面印制板：rigid single-sided printed borad
17、刚性双面印制板：rigid double-sided printed borad
18、刚性多层印制板：rigid multilayer printed board
19、挠性多层印制板：flexible multilayer printed board
20、挠性印制板：flexible printed board
21、挠性单面印制板：flexible single-sided printed board
22、挠性双面印制板：flexible double-sided printed board
23、挠性印制电路：flexible printed circuit (FPC)
24、挠性印制线路：flexible printed wiring
25、刚性印制板：flex-rigid printed board, rigid-flex printed board
26、刚性双面印制板：flex-rigid double-sided printed board, rigid-flex double-sided printed
27、刚性多层印制板：flex-rigid multilayer printed board, rigid-flex multilayer printed board
28、齐平印制板：flush printed board
29、金属芯印制板：metal core printed board
30、金属基印制板：metal base printed board
31、多重布线印制板：mulit-wiring printed board
32、陶瓷印制板：ceramic substrate printed board
33、导电胶印制板：electroconductive paste printed board
34、模塑电路板：molded circuit board
35、模压印制板：stamped printed wiring board
36、顺序层压多层印制板：sequentially-laminated mulitlayer
37、散线印制板：discrete wiring board
38、微线印制板：micro wire board
39、积层印制板：buile-up printed board
40、积层多层印制板：build-up mulitlayer printed board (BUM)
41、积层挠印制板：build-up flexible printed board
42、表面层合电路板：surface laminar circuit (SLC)
43、埋入凸块连印制板：B2it printed board
44、多层膜基板：multi-layered film substrate(MFS)
45、层间全内导通多层印制板：ALIVH multilayer printed board
46、载芯片板：chip on board (COB)
47、埋电阻板：buried resistance board
48、母板：mother board
49、子板：daughter board
50、背板：backplane
51、裸板：bare board
52、键盘板夹心板：copper-invar-copper board
53、动态挠性板：dynamic flex board
54、静态挠性板：static flex board
55、可断拼板：break-away planel
56、电缆：cable
57、挠性扁平电缆：flexible flat cable (FFC)
58、薄膜开关：membrane switch
59、混合电路：hybrid circuit
60、厚膜：thick film
61、厚膜电路：thick film circuit
62、薄膜：thin film
63、薄膜混合电路：thin film hybrid circuit
64、互连：interconnection
65、导线：conductor trace line
66、齐平导线：flush conductor
67、传输线：transmission line
68、跨交：crossover
69、板边插头：edge-board contact
70、增强板：stiffener
71、基底：substrate
72、基板面：real estate
73、导线面：conductor side
74、组件面：component side
75、焊接面：solder side
76、印制：printing
77、网格：grid
78、图形：pattern
79、导电图形：conductive pattern
80、非导电图形：non-conductive pattern
81、字符：legend
82、标志：mark
二、基材
1、基材：base material
2、层压板：laminate
3、覆金属箔基材：metal-clad bade material
4、覆铜箔层压板：copper-clad laminate (CCL)
5、单面覆铜箔层压板：single-sided copper-clad laminate
6、双面覆铜箔层压板：double-sided copper-clad laminate
7、复合层压板：composite laminate
8、薄层压板：thin laminate
9、金属芯覆铜箔层压板：metal core copper-clad laminate
10、金属基覆铜层压板：metal base copper-clad laminate
11、挠性覆铜箔绝缘薄膜：flexible copper-clad dielectric film
12、基体材料：basis material
13、预浸材料：prepreg
14、粘结片：bonding sheet
15、预浸粘结片：preimpregnated bonding sheer
16、环氧玻璃基板：epoxy glass substrate
17、加成法用层压板：laminate for additive process
18、预制内层覆箔板：mass lamination panel
19、内层芯板：core material
20、催化板材：catalyzed board ,coated catalyzed laminate
21、涂胶催化层压板：adhesive-coated catalyzed laminate
22、涂胶无催层压板：adhesive-coated uncatalyzed laminate
23、粘结层：bonding layer
24、粘结膜：film adhesive
25、涂胶粘剂绝缘薄膜：adhesive coated dielectric film
26、无支撑胶粘剂膜：unsupported adhesive film
27、覆盖层：cover layer (cover lay)
28、增强板材：stiffener material
29、铜箔面：copper-clad surface
30、去铜箔面：foil removal surface
31、层压板面：unclad laminate surface
32、基膜面：base film surface
33、胶粘剂面：adhesive faec
34、原始光洁面：plate finish
35、粗面：matt finish
36、纵向：length wise direction
37、模向：cross wise direction
38、剪切板：cut to size panel
39、酚醛纸质覆铜箔板：phenolic cellulose paper copper-clad laminates(phenolic/paper CCL)
40、环氧纸质覆铜箔板：epoxide cellulose paper copper-clad laminates (epoxy/paper CCL)
41、环氧玻璃布基覆铜箔板：epoxide woven glass fabric copper-clad laminates
42、环氧玻璃布纸复合覆铜箔板：epoxide cellulose paper core, glass cloth surfaces copper-clad laminates
43、环氧玻璃布玻璃纤维复合覆铜箔板：epoxide non woven/woven glass reinforced copper-clad laminates
44、聚酯玻璃布覆铜箔板：ployester woven glass fabric copper-clad laminates
45、聚酰亚胺玻璃布覆铜箔板：polyimide woven glass fabric copper-clad laminates
46、双马来酰亚胺三嗪环氧玻璃布覆铜箔板：bismaleimide/triazine/epoxide woven glass fabric copper-clad lamimates
47、环氧合成纤维布覆铜箔板：epoxide synthetic fiber fabric copper-clad laminates
48、聚四乙烯玻璃纤维覆铜箔板：teflon/fiber glass copper-clad laminates
49、超薄型层压板：ultra thin laminate
50、陶瓷基覆铜箔板：ceramics base copper-clad laminates
51、紫外线阻挡型覆铜箔板：UV blocking copper-clad laminates
三、基材的材料
1、A阶树脂：A-stage resin
2、B阶树脂：B-stage resin
3、C阶树脂：C-stage resin
4、环氧树脂：epoxy resin
5、酚醛树脂：phenolic resin
6、聚酯树脂：polyester resin
7、聚酰亚胺树脂：polyimide resin
8、双马来酰亚胺三嗪树脂：bismaleimide-triazine resin
9、丙烯酸树脂：acrylic resin
10、三聚氰胺甲醛树脂：melamine formaldehyde resin
11、多官能环氧树脂：polyfunctional epoxy resin
12、溴化环氧树脂：brominated epoxy resin
13、环氧酚醛：epoxy novolac
14、氟树脂：fluroresin
15、硅树脂：silicone resin
16、硅烷：silane
17、聚合物：polymer
18、无定形聚合物：amorphous polymer
19、结晶现象：crystalline polamer
20、双晶现象：dimorphism
21、共聚物：copolymer
22、合成树脂：synthetic
23、热固性树脂：thermosetting resin
24、热塑性树脂：thermoplastic resin
25、感旋光性树脂：photosensitive resin
26、环氧当量：weight per epoxy equivalent (WPE)
27、环氧值：epoxy value
28、双氰胺：dicyandiamide
29、粘结剂：binder
30、胶粘剂：adesive
31、固化剂：curing agent
32、阻燃剂：flame retardant
33、遮光剂：opaquer
34、增塑剂：plasticizers
35、不饱和聚酯：unsatuiated polyester
36、聚酯薄膜：polyester
37、聚酰亚胺薄膜：polyimide film (PI)
38、聚四氟乙烯：polytetrafluoetylene (PTFE)
39、聚全氟乙烯丙烯薄膜：perfluorinated ethylene-propylene copolymer film (FEP)
40、增强材料：reinforcing material
41、玻璃纤维：glass fiber
42、E玻璃纤维：E-glass fibre
43、D玻璃纤维：D-glass fibre
44、S玻璃纤维：S-glass fibre
45、玻璃布：glass fabric
46、非织布：non-woven fabric
47、玻璃纤维垫：glass mats
48、纱线：yarn
49、单丝：filament
50、绞股：strand
51、纬纱：weft yarn
52、经纱：warp yarn
53、但尼尔：denier
54、经向：warp-wise
55、纬向：weft-wise, filling-wise
56、织物经纬密度：thread count
57、织物组织：weave structure
58、平纹组织：plain structure
59、坏布：grey fabric
60、稀松织物：woven scrim
61、弓纬：bow of weave
62、断经：end missing
63、缺纬：mis-picks
64、纬斜：bias
65、折痕：crease
66、云织：waviness
67、鱼眼：fish eye
68、毛圈长：feather length
69、厚薄段：mark
70、裂缝：split
71、捻度：twist of yarn
72、浸润剂含量：size content
73、浸润剂残留量：size residue
74、处理剂含量：finish level
75、浸润剂：size
76、偶联剂：couplint agent
77、处理织物：finished fabric
78、聚酰胺纤维：polyarmide fiber
79、聚酯纤维非织布：non-woven polyester fabric
80、浸渍绝缘纵纸：impregnating insulation paper
81、聚芳酰胺纤维纸：aromatic polyamide paper
82、断裂长：breaking length
83、吸水高度：height of capillary rise
84、湿强度保留率：wet strength retention
85、白度：whitenness
86、陶瓷：ceramics
87、导电箔：conductive foil
88、铜箔：copper foil
89、电解铜箔：electrodeposited copper foil (ED copper foil)
90、压延铜箔：rolled copper foil
91、退火铜箔：annealed copper foil
92、压延退火铜箔：rolled annealed copper foil (RA copper foil)
93、薄铜箔：thin copper foil
94、涂胶铜箔：adhesive coated foil
95、涂胶脂铜箔：resin coated copper foil (RCC)
96、复合金属箔：composite metallic material
97、载体箔：carrier foil
98、殷瓦：invar
99、箔（剖面）轮廓：foil profile
100、光面：shiny side
101、粗糙面：matte side
102、处理面：treated side
103、防锈处理：stain proofing
104、双面处理铜箔：double treated foil
四、设计
1、原理图：shematic diagram
2、逻辑图：logic diagram
3、印制线路布设：printed wire layout
4、布设总图：master drawing
5、可制造性设计：design-for-manufacturability
6、计算机辅助设计：computer-aided design.(CAD)
7、计算机辅助制造：computer-aided manufacturing.(CAM)
8、计算机集成制造：computer integrat manufacturing.(CIM)
9、计算机辅助工程：computer-aided engineering.(CAE)
10、计算机辅助测试：computer-aided test.(CAT)
11、电子设计自动化：electric design automation .(EDA)
12、工程设计自动化：engineering design automaton .(EDA2)
13、组装设计自动化：assembly aided architectural design. (AAAD)
14、计算机辅助制图：computer aided drawing
15、计算机控制显示：computer controlled display .(CCD)
16、布局：placement
17、布线：routing
18、布图设计：layout
19、重布：rerouting
20、模拟：simulation
21、逻辑模拟：logic simulation
22、电路模拟：circit simulation
23、时序模拟：timing simulation
24、模块化：modularization
25、布线完成率：layout effeciency
26、机器描述格式：machine descriptionm format .(MDF)
27、机器描述格式数据库：MDF databse
28、设计数据库：design database
29、设计原点：design origin
30、优化（设计）：optimization (design)
31、供设计优化坐标轴：predominant axis
32、表格原点：table origin
33、镜像：mirroring
34、驱动文件：drive file
35、中间文件：intermediate file
36、制造文件：manufacturing documentation
37、队列支撑数据库：queue support database
38、组件安置：component positioning
39、图形显示：graphics dispaly
40、比例因子：scaling factor
41、扫描填充：scan filling
42、矩形填充：rectangle filling
43、填充域：region filling
44、实体设计：physical design
45、逻辑设计：logic design
46、逻辑电路：logic circuit
47、层次设计：hierarchical design
48、自顶向下设计：top-down design
49、自底向上设计：bottom-up design
50、线网：net
51、数字化：digitzing
52、设计规则检查：design rule checking
53、走（布）线器：router (CAD)
54、网络表：net list
55、计算机辅助电路分析：computer-aided circuit analysis
56、子线网：subnet
57、目标函数：objective function
58、设计后处理：post design processing (PDP)
59、交互式制图设计：interactive drawing design
60、费用矩阵：cost metrix
61、工程图：engineering drawing
62、方块框图：block diagram
63、迷宫：moze
64、组件密度：component density
65、巡回售货员问题：traveling salesman problem
66、自由度：degrees freedom
67、入度：out going degree
68、出度：incoming degree
69、曼哈顿距离：manhatton distance
70、欧几里德距离：euclidean distance
71、网络：network
72、阵列：array
73、段：segment
74、逻辑：logic
75、逻辑设计自动化：logic design automation
76、分线：separated time
77、分层：separated layer
78、定顺序：definite sequenc
五、形状与尺寸
1、导线（信道）：conduction (track)
2、导线（体）宽度：conductor width
3、导线距离：conductor spacing
4、导线层：conductor layer
5、导线宽度/间距：conductor line/space
6、第一导线层：conductor layer No.1
7、圆形盘：round pad
8、方形盘：square pad
9、菱形盘：diamond pad
10、长方形焊盘：oblong pad
11、子弹形盘：bullet pad
12、泪滴盘：teardrop pad
13、雪人盘：snowman pad
14、V形盘：V-shaped pad
15、环形盘：annular pad
16 、非圆形盘：non-circular pad
17、隔离盘：isolation pad
18、非功能连接盘：monfunctional pad
19、偏置连接盘：offset land
20、腹（背）裸盘：back-bard land
21、盘址：anchoring spaur
22、连接盘图形：land pattern
23、连接盘网格阵列：land grid array
24、孔环：annular ring
25、组件孔：component hole
26、安装孔：mounting hole
27、支撑孔：supported hole
28、非支撑孔：unsupported hole
29、导通孔：via
30、镀通孔：plated through hole (PTH)
31、余隙孔：access hole
32、盲孔：blind via (hole)
33、埋孔：buried via hole
34、埋/盲孔：buried /blind via
35、任意层内部导通孔：any layer inner via hole (ALIVH)
36、全部钻孔：all drilled hole
37、定位孔：toaling hole
38、无连接盘孔：landless hole
39、中间孔：interstitial hole
40、无连接盘导通孔：landless via hole
41、引导孔：pilot hole
42、端接全隙孔：terminal clearomee hole
43、准表面间镀覆孔：quasi-interfacing plated-through hole
44、准尺寸孔：dimensioned hole
45、在连接盘中导通孔：via-in-pad
46、孔位：hole location
47、孔密度：hole density
48、孔图：hole pattern
49、钻孔图：drill drawing
50、装配图：assembly drawing
51、印制板组装图：printed board assembly drawing
52、参考基准：datum referan
六、流程
1、开料：CutLamination/Material cutting
2、钻孔：Drilling
3、内钻：Inner LayerDrilling
4、一次孔:Outer Layer Drilling
5、二次孔:2nd Drilling
6、雷射钻孔:Laser Drilling /Laser Ablation
7、盲(埋)孔钻孔:Blind & Buried Hole Drilling
8、干膜制程：PhotoProcess(D/F)/Dry Film
9、前处理 (Pretreatment)
10、压膜:Dry Film Lamination
11、曝光:Exposure
12、显影:Developing
13、去膜:Stripping
14、压合：Lamination
15、黑化:Black OxideTreatment
16、微蚀:Microetching
17、铆钉组合:eyelet
18、迭板:Lay up
19、压合:Lamination
20、后处理:Post Treatment
21、黑氧化:Black Oxide Removal
22、铣靶:spot face
23、去溢胶:resin flush removal
24、减铜：Copper Reduction
25、水平电镀：HorizontalElectrolytic Plating
26、电镀：Panel plating
27、锡铅电镀:Tin-Lead Plating /Pattern Plating
28、低于 1 mil: Less than 1 mil Thickness
29、高于 1 mil:More than 1 mil Thickness
30、砂带研磨:Belt Sanding
31、剥锡铅:Tin-Lead Stripping
32、微切片: Microsection
33、蚀铜:Etching
34、初检:Touch-up
35、塞孔：Plug Hole
36、防焊(绿漆/绿油)：SolderMask
37、C面印刷:Printing Top Side
38、S面印刷:Printing Bottom Side
39、静电喷涂:Spray Coating
40、前处理:Pretreatment
41、预烤:Precure
42、后烘烤:Postcure
43、印刷:Ink Print
44、表面刷磨:Scrub
45、后烘烤:Postcure
46、UV烘烤:UV Cure
47、文字印刷:Printing of Legend
48、喷砂:Pumice/Wet Blasting
49、印可剥离防焊/蓝胶:Peelable Solder Mask)
50、化学前处理,化学研磨：Chemical Milling
51、选择性浸金压膜：Selective Gold Dry Film Lamination
52、镀金：Gold plating
53、喷锡：Hot Air SolderLeveling
54、成型：Profile/Form
55、开短路测试：Electrical Testing
56、终检：Final VisualInspection
57、金手指镀镍金：Gold Finger
58、电镀软金：Soft Ni/Au Plating
59、浸镍金：Immersion Ni/Au / Electroless Ni/Au
60、喷锡:Hot Air Solder Leveling
61、水平喷锡:HorizontalHot Air Solder Leveling
62、垂直喷锡: Vertical Hot Air Solder Leveling
63、超级焊锡:Super Solder
64、印焊锡突点:Solder Bump
65、数控铣/锣板：N/C Routing/Milling
66、模具冲/啤板：Punch
67、板面清洗烘烤：Cleaning & Backing
68、V型槽/V-CUT：V-Cut/V-Scoring
69、金手指斜边：Beveling of G/F
70、短断路测试Electrical Testing/Continuity & Insulation Testing
71、AOI 光学检查：AOI Inspection
72、VRS 目检：Verified & Repaired
73、泛用型治具测试：Universal Tester
74、专用治具测试：Dedicated Tester
75、飞针测试：Flying Probe
76、终检：Final Visual Inspection
77、压板翘：Warpage Remove
78、X-OUT 印刷：X-Out Marking
79、包装及出货：Packing& shipping
80、清洗及烘烤：Final Clean & Baking
81、铜面保护剂：ENTEK Cu-106A/OSP
82、离子残余量测试:Ionic Contamination Test/ Cleanliness Test
83、冷热冲击试验:Thermal cycling Testing
84、焊锡性试验:Solderability Testing
85、雷射钻孔:Laser Ablation
86、雷射钻Tooling孔:Laser ablationTooling Hole
87、雷射曝光对位孔:Laser Ablation Registration Hole
88、雷射Mask制作:Laser Mask
89、雷射钻孔:Laser Ablation
90、AOI检查及VRS:AOI Inspection & Verified & Repaired
91、除胶渣:Desmear
92、专用治具测试:Dedicated Tester
93、飞针测试:Flying Probe
94、压板翘: Warpage Remove
95、底片：Ablation
96、烧溶：laser)
97、切/磨：abrade
98、粗化：abrasion
99、耐磨性：absorption resistance
100、允收:ACC /accept
101、加速腐蚀:accelerated corrosion test
102、加速试验:accelerated test
103、速化反应:acceleration
104、加速剂:accelerator
105、允许：acceptable
106、活化液：activator
107、实际在制品：active work in process
108、附着力：adhesion
109、黏着法：adhesive method
110、气泡:air inclusion
111、风刀：air knife
112、不定形的改变：amorphous change
113、总量：amount
114、硝基戊烷：amylnitrite
115、分析仪：analyzer
116、环状垫圈;孔环annular ring
117、阳极泥：anodeslime (sludge)
118、阳极清洗：anodizing
119、自动光学检测：AOI/automatic optical inspection
120、引用之文件：applicable documents
121、允收水平抽样：AQL sampling
122、液态光阻：aqueous photoresist
123、纵横比(厚宽比)：aspect ratioAs received
124、背光：back lighting
125、垫板：back-up
126、预留在制品：banked work in process
127、基材：base material
128、基准绩效：baseline performance
129、批：batch
130、贝他射线照射法：beta backscattering
131、切斜边;斜边：beveling
132、二方向之变形:biaxial deformation
133、黑化：black-oxide
134、空板：blank panel
135、挖空:blanking
136、弹开:blip
137、气泡:blister blistering
138、吹孔:blow hole
139、板厚错误:board-thickness error
140、黏结层:bonding plies
141、板弯:bow ; bowing
142、破空:break out
143、搭桥;桥接：bridging
144、接单生产：BTO (Build To Order)
145、烧焦：burning
146、毛边(毛头)：burr
147、碳化物：carbide
148、定位梢：carlson pin
149、载运剂：carrier
150、催化：catalyzing
151、阴极溅射法：catholicsputtering
152、隔板;钢板：caul plate
153、校验系统之各种要求：calibration system requirements
154、中心光束法：center beam method
155、集中式投射线：central projection
156、认证：certification
157、倒角 (金手指)：chamfer chamfer
158、切斜边;倒角：chamfering
159、特性阻抗：characteristic impedance
160、电量传递过电压：charge transfer overpotential
161、网框：chase
162、棋盘：checkboard
163、蟹和剂：chelator
164、化学键：chemical bond
165、化学蒸着镀：chemical vapor deposition
166、圆周性之孔破：circumferential void
167、包夹金属：clad metal
168、无尘室：clean room
169、间隙：clearance
170、表面处理：Coating/Surface Finish
