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为确保电子产品的顺利上市,集成电路(IC)不能缺少“流片阶段”,在流片前,设计规则检查(DRC)与版图与电路图一致性检查(LVS)是确保芯片成功制造并符合预期功能的关键步骤。1、电容长宽比检查确保电容长宽比合理,避免电场分布不均,影响性能。
为确保电子产品的顺利上市,集成电路(IC)不能缺少“流片阶段”,在流片前,设计规则检查(DRC)与版图与电路图一致性检查(LVS)是确保芯片成功制造并符合预期功能的关键步骤。1、电容长宽比检查确保电容长宽比合理,避免电场分布不均,影响性能。
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