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众所周知，由于美国因素，世界最大的光刻机制造厂商ASML不能向国内企业提供高端EDA制造设备，也就是光刻机，但很少人知道，7nmDUV光刻机是可以提供的。近日，据美国媒体报道：ASML已获得荷兰官方许可，被允许在2023年年底前向中国客户出
众所周知，由于地缘政治关系紧张的因素，俄罗斯被美国制裁，因此为保证工业需求，俄罗斯大力发展半导体研发，出台多项半导体扶持政策，并取得了一定的初步效果。据俄罗斯国际新闻通讯社报道，来自圣彼得堡理工大学的研究团队成功研发出一种新型的“国产光刻复
在半导体制程技术进入5nm先进工艺后，EUV光刻机已成为不可或缺的关键设备，但由于能制作的EUV光刻机厂商仅有ASML，而且产能有限、造价高昂，每台售卖超1亿美元，相当高的条件，决定了现在的芯片成本越来越贵。然而，日本佳能（Canon）号称
众所周知，为打压中国半导体行业发展，美国的制裁可谓是无所不及，短短四年内，从EUV光刻机到高性能计算芯片等，列出了多项严格的限制。如今这些制裁范围又要升级！近日，美国拜登政府宣布将计划正式出台一系列新的限制措施，包括限制向中国出口更先进的人
众所周知，随着芯片先进制程工艺的提升，必然带来的是研发难度几何指数增长，作为全球最优秀的晶圆代工厂商——台积电，研发3nm制程就遇到了不少难关，如良品率、原材料上涨、光刻机等。然而，近日台积电总裁魏哲家在法人说明会上披露：台积电有望在202
在EUV光刻机被断供前，中国厂商就已经疯狂抢购ASML光刻机，并且达到了一个可观的数量，那么你知道，目前中国有多少个光刻机？ASML刚好给出了答案。近日，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波字第六届中国国际进口博览会上接受媒体采访时透露过：到
众所周知，光刻机被誉为“芯片之母”，在芯片制造过程中扮演着至关重要的角色，造价昂贵，数量稀少，因此是高精度高密度的尖端设备，发展多年，至今只有ASML可生产先进工艺的光刻机。近日，俄罗斯公开表示正在研发光刻机，最快将在2024年出成果，据俄
半导体硅片，也叫做硅晶圆片，是由硅单晶锭切割而成的薄片，是半导体、光伏等行业广泛使用的基底材料。半导体硅片有多重要？凡是各种电子元器件及光伏材料，如二极管、集成电路等，均是由硅片进行光刻、离子注入等手段将其制作而成的，可以说，半导体硅片产业
1 •外延的命令epitaxy，参数及其说明如下：1.1外延的例子1.3光刻仿真•OPTOLITH模块可对成像(imaging)，光刻胶曝光(exposure)，光刻胶烘烤（bake）和光刻胶显影（development）等工艺进行精确定义••OPTOLITH提供光阻的库及其光学性质和显影时的特性（
光刻胶的成分和光刻原理
最近有人问我光刻胶曝光的原理和正负光刻胶的主要组分是什么，我也只是知道是这么一回事，但是里面包含许多专有名词还是挺拗口的，反正我是不想去记它。 今天刚好找了一下以前的笔记，大家可以复习一下，写材料的时候也能从copy一下。首先，是光刻的工序 光刻胶分两种，一种正光刻胶、一种负光刻胶，出来的
